産学協同研究部門
産総研・名大 窒化物半導体先進デバイス
オープンイノベーションラボラトリ
オープンイノベーションラボラトリ
窒化物半導体を中心に、材料から応用に至る幅広い研究を行ないます。
『事業化へ向けた』「橋渡し」研究として、大学等における基礎研究の成果を、効果的・効率的に応用に
結びつけることを目的としています。
『事業化へ向けた』「橋渡し」研究として、大学等における基礎研究の成果を、効果的・効率的に応用に
結びつけることを目的としています。
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AlGaN/GaN HEMT
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スイッチング特性
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エバネッセント光の結合効果を利用した
指向性LEDの模式図
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発光パターン
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メンバー
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特任教授
清水 三聡
研究テーマ
GaNパワーエレクトロニクス
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特任教授
王 学論
研究テーマ
光デバイス
NIMS・名大 GaN評価基盤研究ラボラトリ
-天野・小出共同研究ラボ-
-天野・小出共同研究ラボ-
本共同研究ラボは当部門およびNIMSそれぞれに設置され、天野浩教授および小出康夫NIMSセンター長/前
理事が相互にクロスアポイントメントすることにより共同ラボ長を務め、 GaNパワーデバイスの開発に向けた結晶・エピ結晶・要素デバイスの結晶学的・電気的・光学的な評価・計測や評価・計測手法の研究開発を推進します。 NIMSが保有する物性評価・分析技術を有効活用し効果的に研究を推進します。
理事が相互にクロスアポイントメントすることにより共同ラボ長を務め、 GaNパワーデバイスの開発に向けた結晶・エピ結晶・要素デバイスの結晶学的・電気的・光学的な評価・計測や評価・計測手法の研究開発を推進します。 NIMSが保有する物性評価・分析技術を有効活用し効果的に研究を推進します。
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メンバー
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特任准教授
田中 敦之
研究テーマ
GaNを用いた次世代パワーデバイスの創始
トヨタ先端パワーエレクトロニクス産学協同研究部門
窒化ガリウムパワー半導体デバイスの実現に向けて、この部門は以下の新しい技術を研究開発しています。
1.高精度で欠陥、不純物および損傷の制御性を可能にする加工技術
2.低損失・高スイッチングデバイスのためのデバイス設計技術
3.高性能の新しい窒化ガリウムパワーデバイスを使用したシステムアプリケーション
1.高精度で欠陥、不純物および損傷の制御性を可能にする加工技術
2.低損失・高スイッチングデバイスのためのデバイス設計技術
3.高性能の新しい窒化ガリウムパワーデバイスを使用したシステムアプリケーション
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縦型GaN-MOSFETの構造設計
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メンバー
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特任教授
上杉 勉
研究テーマ
窒化ガリウムパワーデバイスの作製プロセスおよびデバイス構造の研究
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特任講師
近藤 健
研究テーマ
窒化ガリウムパワーデバイスの作製プロセスおよびデバイス構造の研究
旭化成次世代デバイス産学協同研究部門
旭化成次世代デバイス産学協同研究部門では、単結晶窒化アルミニム基板の特徴を生かした新規デバイスの探索研究および応用技術の開発を推進し、新規事業の創出を目指します。
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2インチ単結晶AlN基板
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メンバー
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特任教授
SCHOWALTER, Leo John
研究テーマ
単結晶窒化アルミニウムを用いた次世代デバイスの研究開発
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特任講師
杉山 直治
研究テーマ
紫外発光素子のための窒化物半導体材料および薄膜結晶に関する研究
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特任助教
張 梓懿
研究テーマ
窒化物半導体による紫外発光素子に関する研究開発
豊田中研GaNパワーデバイス産学協同研究部門
窒化ガリウムを用いたパワーデバイスの実用化を目指し、下記の観点から研究を進めます。
- ①不純物や点欠陥を高精度に制御するエピタキシャル成長技術
- ②ゲート絶縁膜・MOS界面技術
- ③低ダメージ加工、イオン注入などプロセス技術
- ④超低損失化を実現するデバイス設計技術"
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メンバー
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特任教授
冨田 一義
研究テーマ
GaNパワーデバイス用の高品質エピタキシャル成長
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特任教授
兼近 将一
研究テーマ
GaNパワーデバイスのプロセス技術およびデバイス設計・評価
三菱ケミカルGaN基板デバイス産学協同研究部門